في هذا القسم، يناقش المؤلفون أهمية العوازل عالية الكثافة (high-κ) في تكنولوجيا الترانزستورات الحديثة، وخاصة لتعزيز التحكم السعوي وتقليل تيارات التسرب. يسلطون الضوء على التحديات المرتبطة بتحقيق عوازل عالية الكثافة متوافقة مع الصناعة بسمك أكسيد مكافئ (EOT) أقل من 5 أنغستروم. تقدم الدراسة تصنيعًا ناجحًا لعوازل أكسيد الهافنيوم (HfO₂) بسمك 1.3 نانومتر باستخدام عملية ترسيب…