في هذا القسم، يوضح المؤلفون طرق التصنيع لمصفوفة مقياس التداخل ماخ-زيندر (MZI)، ومصفوفة ذاكرة ضوئية، ونواة موحد امتصاص كهربائي ضوئي (EAM). تم بناء مصفوفة MZI على رقاقة سيليكون على عازل، باستخدام سلسلة من العمليات بما في ذلك الطباعة الإلكترونية (EBL) للنمذجة، وحفر الأيونات التفاعلية لتشكيل الموجات، وترسيب ثاني أكسيد السيليكون كطبقة تغليف علوية. شملت عملية…